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等离子清洗机能去除芯片表面沾污、杂质。离子清洗机在残胶领域中主要在精密光电、芯片制造领域中,解决光刻胶方面的问题,如:线路板FPC/PCB的残胶去除,光纤表面残胶去除等,经过等离子清洗机处理的表面还会获得亲水效果,有利于后续贴合、涂覆、镀膜等工艺处理。
等离子清洗机能够解决晶圆表面清洗难题的同时提供改性活化作用,方便后续黏晶、封胶、点胶等等工艺;作为干式方法的等离子体清洗机可控性强,一致性好,不仅可以去除光刻胶和其他**物,而且还可以活化和粗化晶圆表面,提高晶圆表面浸润性。
离子体清洗机不分处理对象的基材类型均可进行处理,对金属、半导体、氧化物、**物和大多数高分子材料也能进行很好的处理,只需要很低的气体流量,并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。等离子体清洗机不使用任何化学溶剂,因此基晶圆片等离子清洗机可用于成批剥离,材料包括光致抗蚀剂,氧化物,氨化物蚀刻,电介质。硅片去除污染物和氧化物,提高粘接率和可靠性等等本上无污染物,附着力的提高可以让粘接更加牢固,减少分层,杜绝气泡。等离子清洗机处理具有良好的均匀性和重复性、可控性,易实现批量生产。