晶圆等离子体清洗设备

等离子清洗机能去除芯片表面沾污、杂质。离子清洗机在残胶领域中主要在精密光电、芯片制造领域中，解决光刻胶方面的问题，如：线路板FPC/PCB的残胶去除，光纤表面残胶去除等，经过等离子清洗机处理的表面还会获得亲水效果，有利于后续贴合、涂覆、镀膜等工艺处理。

等离子清洗机能够解决晶圆表面清洗难题的同时提供改性活化作用，方便后续黏晶、封胶、点胶等等工艺；作为干式方法的等离子体清洗机可控性强，一致性好，不仅可以去除光刻胶和其他**物，而且还可以活化和粗化晶圆表面，提高晶圆表面浸润性。

离子体清洗机不分处理对象的基材类型均可进行处理，对金属、半导体、氧化物、**物和大多数高分子材料也能进行很好的处理，只需要很低的气体流量，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。等离子体清洗机不使用任何化学溶剂，因此基晶圆片等离子清洗机可用于成批剥离，材料包括光致抗蚀剂，氧化物，氨化物蚀刻，电介质。硅片去除污染物和氧化物，提高粘接率和可靠性等等本上无污染物，附着力的提高可以让粘接更加牢固，减少分层，杜绝气泡。等离子清洗机处理具有良好的均匀性和重复性、可控性，易实现批量生产。