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等离子体清洗技术的大特点是不分处理对象的基材类型,均可进行处理,对玻璃、金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰、聚、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理,并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。
等离子体表面处理仪就是通过利用等离子体的活性组分的性质来处理样品表面,从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的
等清洗表面处理设备被处理材料表面打出无数个肉眼看不到的小孔,同时在表面形成一个新的氧化层薄膜。这样以来大大增加了被处理材料的表面积,间接性的增加了材料表面的粘附性、相容性、浸润性、扩散性等等。离子清洗机采用气体作为清洗介质,有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。
等离子处理机的清洗程度达到分子级。等离子清洗器除了具有**清洗功能外,在特定条件下还可根据需要改变某些材料表面的性能,等离子体作用于材料表面,使表面分子的化学键发生重组,形成新的表面特性。对某些有特殊用途的材料,在**清洗过程中等离子清洗器的辉光放电不但加强了这些材料的粘附性、相容性和侵润性,并可消毒和杀菌。
等离子清洗器广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微观流体学等领域,等离子清洗机及其清洗技术也应用在光学工业、机械与航天工业、高分子工业、污染防治工业和量测工业上,而且是产品提升的关键技术,比如说光学元件的镀膜、延长模具或加工工具寿命的抗磨耗损,复合材料的中间层、织布或隐性镜片的表面处理、微感测器的制造,**微机械的加工技术、人工关节、骨骼或心脏瓣膜的抗磨耗层等皆需等离子技术的进步,才能开发完成。