等离子清洗机 wafer晶圆除胶设备

更新时间：2024-05-15 浏览数：453
所属行业：机械清洗/清理设备超声波清洗机

发货地址：山东省烟台招远市
产品数量：100.00套
价格：面议

产品名称等离子清洗机品牌戈德尔输入电压 220V AC波动小于10% 电流电压设定方式

等离子清洗机的去胶工艺是微加工实验中一个非常重要的过程。在电子束、紫外等微纳米加工工艺之后，都需要对光刻胶进行去除或打底膜处理。

等离子清洗机去胶快速，对样片无损伤

等离子清洗机的产品用途：

高剂量离子注入光刻胶的去除

湿法或干法刻蚀前后的去残胶

MEMS中牺牲层的去除

去除化学残余物

清除浮渣工艺

等离子清洗机的设备具有以下主要指标和特点

1，等离子去胶机的整体机型紧凑型设计，占地面积小，但处理，可一次装载25片6寸晶圆，可处理8寸晶圆

2.工业级电脑控制，Windows操作系统，并有多语言操作界面，

3.13.56 MHz，600瓦配置，图形化的操作界面，

5.系统可配备多路MFC

6·网络远程故障诊断和排除

7.PVA等离子去胶机机基于不同应用，有多种规格可选

烟台金鹰科技有限公司主导产品有：等离子处理机、等离子清洗机、等离子表面处理机、电浆处理机、电晕处理机及常压等离子打磨系统。