等离子去胶清洗机

等离子清洗机从蚀刻晶圆片上移除光刻，等离子去胶机主要用于光刻胶的剥离或灰化，也可用于：**及无机残留物的去除、清洗微电子元件、电路板上钻孔或铜线框架、提高黏附性，去除键合问题等

等离子清洗机，半导体圆片的单片去胶设备，通过产生低压、低温的等离子体辉光放电，与圆片表面反映，完成去胶，等离子去胶机，去残胶、 胶膜 、光刻胶清洗，表面激+活干法去胶设备

等离子清洗机有几种称谓，英文叫（Plasma Cleaner）又称等离子体清洗机,等离子清洗器,等离子清洗仪,等离子刻蚀机，等离子表面处理机,电浆清洗机，plasma清洗机，等离子去胶机，等离子清洗设备。等离子去胶机具有表面刻蚀,活化,纳米涂层等功能

等离子去胶机,针对材料清洗+活化+改性,提高材料亲水性,增强附着力,粘接力

等离子清洗机/等离子去胶机/等离子处理设备广泛应用于等离子清洗、等离子刻蚀、等离子去胶、等离子涂覆、等离子灰化、等离子处理和等离子表面处理等场合。通过其等离子表面处理，能够改善材料表面的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、涂镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除**污染物、油污或油脂。