微波等离子清洗机 半导体晶圆去胶设备
发货地址：山东省烟台招远市
产品规格：plasma
产品数量：1000.00套
包装说明：木箱
价格：面议
产品规格plasma包装说明木箱 产品名称等离子清洗机
品牌戈德尔
220输入电压
220V AC波动小于10%
电流电压设定方式
微波等离子清洗机实现清洁、活化去胶、刻蚀功效 台式微波等离子去胶机采用高密度2.45GHZ微波等离子技术，用于集成电路、半导体生产中晶圆的清洁去胶、硅片去除污染物和氧化物、提高粘接率，微波等离子体清洗、去胶机能够对微孔、狭缝等细小的空间进行处理，具有高度活性、效，且不会对电子装置产生离子损害。 通过工艺验证，微波等离子清洗机降低了接触角度，提高了引线键合强度。台式微波等离子清洗机的相关应用 等离子清洗机器的应用包括预处理、灰化/光致抗蚀剂/聚合物剥离、芯片碰撞、静电、介质蚀刻、**污染去除、芯片减压等。使用等离子清洗机不仅能去除光致抗蚀剂和其他**物质，而且可以活化和增厚芯片表面，提高芯片表面的润湿性，使芯片表面更有粘合力。微波等离子清洗机在半导体封装工艺中的应用：1. 防止包封分层2. 提高焊线质量3. 增加键合强度4. 提高可靠性，尤其是多接口的高级封装
为何选择我们的微波等离子清洗机？专注研发、制造、生产各种规格等离子清洗机20多年，合作企业涵盖半导体、电子、光电、纺织、塑胶、汽车、塑胶、生物、医疗、印刷、家电、日用品及环保等众多行业，服务过300+客户免费咨询讲解、免费样品测试处理、免费上门培训安装调试可根据不同的客户需求提供一对一定制化设备解决方案，欢迎来厂考察
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